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光電製程清洗設備

1. 雙面滾筒刷全自動洗淨裝置（2~6 inch）
專門用於2~6吋晶片。獨特的雙面滾筒刷設計，適用於Silicon，Compound， Sapphire，Quartz/Crystal，Oxide 材料的清洗。只要使用表(界)面活性劑(surfactant)和純水(pure water)，就可得到很好的清洗效果。

DSC-75(全自動)

DWSC-100(半自動)

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